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辉光离子渗氮炉在真空中的工艺规范

发布时间: 2021-10-11    作者:admin
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      辉光离子渗氮炉是利用直流电场使真空容器中的含氮稀薄气体离子化的研究,在金属件表面形成氮化层,以实现表面硬化的设备。今天,小编就为大家介绍辉光离子渗氮炉的操作流程和工艺规范要求,大家来看看吧!
      渗氮层数随时间的延长增厚,初期增长较快,以后逐渐减慢,一般渗速在0.01 mm/h左右。
      随着保温时间的延长,氮化物聚集长大,硬度降低。气温愈高,时间愈长愈大。
      合压(工作电压电阻器零点)通冷却循环水。该电阻挡位是一个弧形挡位。电弧挡位阻值增加很大,根据电流大小,当电阻值较小时,根据电流大小而定。弧形挡位的电流一般是额定电压的五分之一上下。
      缓慢调整电阻器至须部位,直至炉内起辉炉内钢件清打弧工作。无法使炉内的电弧强烈。
      挥发性物质在百分之20到百分之40时氮原子增多,在零件表面可以被大量吸收。
      当挥发率超过百分之60时,氢气含量高达百分之52,就会产生脱氮作用,这一阶段不仅氮原子数量减少,而且大量的氢分子和氮分子在零件表面附近停滞,使氮原子不易被表面吸收,从而使零件表面含氮量降低,渗氮层深也减薄。加热炉、氮化罐及整个氮化系统应对前处理炉、氮化罐及整个氮化系统的进气口进行密性检测,确保氨气不泄漏及管路畅通。